實踐證明深紫外光刻工藝深受多種類微量污染物的影響，對很多微量污染物極為敏感，比如氨氣或者酸性氣體都會給半導體生產(chǎn)帶來危害，盡管隨著深紫外耐腐蝕材料技術的發(fā)展，已經(jīng)減少了長時間持續(xù)實時監(jiān)測，而實際上AMC空氣分析儀對空氣分子污染（AMC）的實時測量對產(chǎn)品質(zhì)量的好壞至關重要。
 

　　

　　AMC空氣分析儀也集成了多點監(jiān)測系統(tǒng)，可依序?qū)怏w抽送到分析儀或傳感器，并讀出測量結(jié)果。獵戶座3100S內(nèi)嵌的報警、報告、分析軟件是由多年半導體行業(yè)經(jīng)驗的工程師集體開發(fā)。模擬模塊可以輸出來自4~6臺分析儀或傳感器的數(shù)據(jù)。每臺分析儀配有內(nèi)置計算機，可進行數(shù)據(jù)存儲和數(shù)據(jù)輸出，還支持遠程網(wǎng)絡控制，通過互聯(lián)網(wǎng)可以連接經(jīng)銷商服務商進行操作或者診斷。使用者可以通過網(wǎng)絡瀏覽器比如IE、Chrome等世界任意可以聯(lián)網(wǎng)的地方進行操作，遠程操作可實現(xiàn)多級管理權限控制和操作。

　　

　　儀器基于CEAS（腔增強吸收光譜）技術，極簡使用、便捷操作，所有部件（包括內(nèi)置真空泵、鍵盤、鼠標、顯示器等）幾分鐘內(nèi)可開始記錄數(shù)據(jù)，其他大氣中的水汽、CO2、O2、甲烷等不會對HCL、HF、NH3等測量構成交叉干擾。內(nèi)置計算機可logo2以存儲大量數(shù)據(jù)到內(nèi)置硬盤上，可同過數(shù)字接口或者模擬接口傳輸數(shù)據(jù)，可通過互聯(lián)網(wǎng)遠程存儲或記錄數(shù)據(jù)，高質(zhì)量的數(shù)據(jù)庫，適合于苛刻的半導體痕量級氣體應用。

　　

　　AMC空氣分析儀基于CEAS（腔增強吸收光譜）技術的儀器原理圖，使用近紅外波段光進行高靈敏度吸收測量，測量腔室由一組高反射率多次反射鏡片組成的柱狀體構成，激光束經(jīng)過固態(tài)校準器時會測量得到相對激光波長。為了保證清晰度，忽略了原本照射到左側(cè)測量單元腔鏡外的光束。